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Materialentwicklung:

  • Entwicklung von Keramiken und Glaskeramiken
  • Herstellung keramischer Folien und Schichtverbunde (LTCC-Technologie)
  • Sol-Gel-Technologie
  • Materialien für die Aufbau- und Montagetechnik

Mikrotechnologische Verfahren:

  • Industriekompatible Prozessierung im Reinraum
  • Maskenfertigung, e-Strahl-Lithographie
  • Kontaktbelichtung und Stepperlithographie
  • Dünnschichttechniken (Sputtern, CVD, ...)
  • Ätzverfahren (nasschemisch, RIE, ...)

Laser-Strukturierung:

  • UV-Festkörper- und Excimer-Laser zur Mikrostrukturierung
  • ns-Pulse zur Bearbeitung harter Materialien (z.B. Vias in SiC)
  • fs-Ultrakurzpulslaser für die Materialstrukturierung

Mikroformgebung:

  • Mikrosenkerosion für Strukturgrößen bis 20 µm
  • Mikrodrahterosion mit Feinstdrahtelektroden
  • Ultrapräzisionszerspanung
  • Hochpräzisionsfräsbearbeitung
  • Präzisions-Spritzgießen
  • Direkt-LIGA (Röntgen-Lithographie und Galvanik)

Mikromontage:

  • Hochpräzise Pick and Place Vorrichtungen
  • Die- und Drahtbonden
  • Flip Chip Montage
 
   
© 2012 Zentrum für Mikrosystemtechnik Berlin
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